濕電子化學(xué)品，又稱超凈高純?cè)噭┗蚬に嚮瘜W(xué)品，是指主體成分純度大于 99.99%，雜質(zhì)離子和微粒數(shù)符合嚴(yán)格要求的化學(xué)試劑。主要以上游硫酸、 鹽酸、 氫氟酸、 氨水、 氫氧化鈉、 氫氧化鉀、 **、 乙醇、 異丙醇等為原料，經(jīng)過(guò)預(yù)處理、 過(guò)濾、 提純等工藝生產(chǎn)得到的高純度產(chǎn)品。濕電子化學(xué)品是微電子、光電子濕法工藝制程中使用的各種液體化工材料，是電子技術(shù)與化工材料相結(jié)合的創(chuàng)新產(chǎn)物，具有技術(shù)門檻高、資金投入大、產(chǎn)品更新?lián)Q代快等特點(diǎn)。濕電子化學(xué)品按用途主要分為通用化學(xué)品和功能性化學(xué)品兩類。其中通用化學(xué)品以高純?nèi)軇橹鳎缪趸瘹洹浞?、硫酸、磷酸、鹽酸、硝酸等；功能性化學(xué)品指通過(guò)復(fù)配手段達(dá)到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的配方類或復(fù)配類化學(xué)品，主要包括顯影液、剝離液、清洗液、刻蝕液等。濕電子化學(xué)品目前廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體、平板顯示、太陽(yáng)能電池等多個(gè)領(lǐng)域，其中液晶面板領(lǐng)域增速快。即按下游產(chǎn)品應(yīng)用的工藝環(huán)節(jié)分，主要有平板顯示制造工藝的應(yīng)用、半導(dǎo)體制造工藝的應(yīng)用及太陽(yáng)能電池板制造工藝的應(yīng)用。

全球電子材料和化學(xué)品市場(chǎng)過(guò)去形成了三足鼎立之態(tài)勢(shì)，分別是歐美，日本，以及除日本之外的亞洲其他國(guó)家或地區(qū)企業(yè)。由于集成電路材料在下游成本中占比不大，但對(duì)產(chǎn)品性能影響卻很大，因此下游客戶對(duì)產(chǎn)品價(jià)格敏感度不高，更看重產(chǎn)品的質(zhì)量、穩(wěn)定性，存在很高的技術(shù)壁壘，我國(guó)的電子材料和化學(xué)品依賴度非常高，特別是在高端產(chǎn)品制造中所涉及的功能性化學(xué)品，我國(guó)自給率不足 20%。 2010 年國(guó)內(nèi)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，濕電子化學(xué)品消耗總量約為 18 萬(wàn)噸/年，硫酸約占27%~33%，雙氧水約占8%~22%，氨水約占 8%，鹽酸約占 3%~8%，其他酸（包括硝酸、醋酸、氫氟酸和磷酸等）約占 10%~20%，刻蝕劑約占 12%~20%，有機(jī)溶劑約占 10%~15%。隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，濕電子化學(xué)品需求量逐年不斷增加，預(yù)計(jì)至 2020 年國(guó)內(nèi)應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、平板行業(yè)的濕電子化學(xué)品需求量將超過(guò) 80 萬(wàn)噸，綜上所述，在超凈高純?cè)噭┲?H2SO4、 HF、 HNO3、 HCl 和醋酸等酸性溶液，NH3?H2O 和 KOH 等堿性溶液， H2O2 等氧化溶液， IPA 等有機(jī)溶液均存在加大范圍的應(yīng)用。